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  • OAP烘箱,OAP處理烘箱 工業烘箱
    OAP烘箱,OAP處理烘箱處理主要是為了改善親水性表面,變為疏水性,從而達到增加光刻膠粘附性的作用。
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  • 六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備 工業烘箱
    六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中,通常會用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會導致后續的光刻顯影環節出現“裂紋”甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善,這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。
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  • HMDS 烘箱 工業烘箱
    HMDS 烘箱是將HMDS蒸汽通過干燥的真空腔內加熱到(120-150°C),在襯底表面上HMDS作為單層膜進行化學結合。
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  • HMDS烤箱,HMDS真空烘箱
    HMDS烤箱,HMDS真空烘箱將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。
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  • HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )-真空烘箱
    HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進行,晶片在箱內先經過100℃-200℃的去水烘烤,再進行HMDS處理,不需要從箱內傳出,而接觸到空氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有更好的處理效果。
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