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實驗室HMDS專用烘箱  小型HMDS處理烤箱
實驗室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱

實驗室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱解決光刻膠附著力不足問題,同時增強光刻圖形的完整性.

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大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱
大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱

大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱 是半導體光刻工藝中的關鍵設備,主要用于基片表面預處理,通過六甲基二硅氮烷(HMDS)涂布增強光刻膠與基片的黏附性。

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硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統 納米抗粘設備
硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統 納米抗粘設備

硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統 納米抗粘設備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實現結構較好的轉移,復制.

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抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機
抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機

抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度(100-200℃)、處理時長及保持時間等參數,使氮烷(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷)沉積在襯底表面,生成疏水性的保護層,,將親水基片轉化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角,減少光刻膠使用量約30%,同時提升膠層與基片的黏附強度?。

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抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機  氣相沉積系統
抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機 氣相沉積系統

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機 氣相沉積系統 硅烷偶聯劑(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等)作為一類重要的有機硅化合物,在材料表面改性、復合材料增強、涂層制備等眾多領域有著廣泛應用。

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疏水處理設備  疏水性處理系統 HMDS預處理
疏水處理設備 疏水性處理系統 HMDS預處理

疏水處理設備 疏水性處理系統 HMDS預處理是一種改善物體表面性質的技術,使其具有疏水性,即不易被液體濕潤。

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表面疏水性處理設備  陶瓷玻璃疏水處理機
表面疏水性處理設備 陶瓷玻璃疏水處理機

表面疏水性處理設備 陶瓷玻璃疏水處理機通過氣相涂布硅烷偶聯劑HMDS實現陶瓷表面疏水性能的提高,陶瓷表面接觸角為118?135度,且疏水材料與陶瓷基體的的附著性能好。

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