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HMDS增粘裝置,涂敷HMDS增粘劑的裝置

HMDS增粘裝置,涂敷HMDS增粘劑的裝置通過對箱體內預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,增加了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-09-17
  • 訪  問  量:2185
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聯系電話:021-31434441

產品詳情

HMDS增粘裝置,涂敷HMDS增粘劑的裝置用途:

  HMDS增粘裝置通過對箱體內預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,增加了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

HMDS增粘裝置,涂敷HMDS增粘劑的裝置技術性能:

尺寸(深*寬*高):

  內腔尺寸:300×300×300(mm)

  外形尺寸:500×680×780(mm)

材質 :外箱采用優質不銹鋼,內箱采用316L醫用級不銹鋼

溫度使用范圍: 80-200℃

溫度分辨率: 0.1℃

溫度波動度: ≤±0.5

真空度: ≤100pa(1torr)

潔凈度: 設備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環境

電源及總功率: AC 220V±10% / 50HZ  , 總功率約2.5KW    

控制儀表: 人機界面

擱板層數: 一層

HMDS控制: 可控制HMDS藥液添加量

真空泵: 無油渦旋真空泵

HMDS增粘裝置使用環境

安裝設備使用空開電源,220V、3.0KW ;

工業用氮氣純度99.999%,壓力0.2MP,?8mm軟管快插接口;    

尾氣排放KF25閥接口;

周圍無強烈電磁場影響,周圍無強烈震動;

潔凈車間,周圍無高濃度粉塵及腐蝕性物質;

無陽光直接照射或其它熱源直接輻射;

周圍無強烈氣流,當周圍空氣需要強制流動時,氣流不應在直接吹到箱體上;

設備應放在堅固平穩的平面上,并使其保持水平狀態;

環境溫、濕度5℃~+35℃,相對濕度:≤85%;



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