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曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的

更新時間:2024-12-17   點擊次數:559次
  光刻膠在曝光完成后,光刻膠需要經過再一次烘烤,因為這次烘烤在曝光后,所以稱為“曝光后烘烤”,簡稱后烘或堅膜,英文為Post Exposure Bake(PEB)。
 
  曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過加熱的方式,使得光化學反應能夠充分完成。
 
  對于酚醛樹脂體系的光刻膠,PEB可以擴散感光劑以消除駐波效應。并且,PEB溫度不同時,感光劑的擴散距離不同,消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時,消除駐波效應明顯。
 
  對于化學放大型光刻膠,在后烘過程中,光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護反應(Deprotection Reaction),又稱為脫保護反應。
  大量實驗表明,烤膠臺烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設置后烘工藝時, 對熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。
 
  烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤性能
 
  智能型烤膠機
 
  加熱尺寸:220*220mm(可定制),適用于Ø200毫米(8英寸)圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產品;
 
  溫度范圍:RT~300°C
 
  溫度精度:0.1°C;
 
  溫度均勻性:≤±0.5℃;
 
  電動頂針調節高度: 0~30mm;
 
  加熱臺表面:耐腐蝕硬質陽極氧化鋁制成;
 
  控制器單元:7寸全彩觸摸屏,高級PLC控制,實現在特定時間內自動升降,可以定時取片;
 
  潔凈烘箱
 
  無塵等級:Class100;
 
  溫度范圍:RT~300/450℃;
 
  溫度均勻度:200℃±3℃;
 
  溫度波動度:±0.5℃(空載)
 
  工作尺寸(mm):
 
  450×450×450
 
  500×500×500
 
  600×700×800(可定制)
 
  可擴展功能:
 
  氧濃度檢測,無塵無氧烘箱
 
  智能聯網功能,MES等工業自動化軟件
 
  掃碼槍,掃碼溯源,一鍵讀取
 
  自動門控,上位機程控,機械手搬運產品
 

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