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半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱

半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。經耐高溫高效空氣過濾器過濾,使烘箱工作室內處于無塵狀態。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-09-16
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半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱性能介紹

半導體光刻烤箱晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱

是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。經耐高溫高效空氣過濾器過濾,使烘箱工作室內處于無塵狀態。潔凈烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制P.I.D調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。
半導體光刻烤箱,晶圓涂膠烤箱、光刻涂膠用烘箱

可滿足電子電器、醫藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口。

、光刻涂膠用烘箱技術參數:      

1.內部尺寸:600*500*750(mm) (內尺寸可選擇)

2.內箱分層:三層

3. 溫度范圍:RT+10℃~300℃。

4.溫度波動:<±1℃。

5.溫度均勻:±2%(空載測試)。

  依測規范:測SENSOR置放點,離內箱壁內尺寸1/10處。

6.溫控裝置:高精度P.I.D智能溫控儀表, LED數字顯示及設定、P.I.D自動演算、時間定時。

溫控輸出:SSR輸出,品牌繼電器,固態繼電器。                    

測溫裝置:1支PT100 鉑 電阻溫度傳感裝置,測溫精確。

氣體控制裝置:高效過濾氣體中微粒。

7.內室材料:采用無磁性鏡面不銹鋼;外箱采用 SS41# 中碳鋼板經磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆,可防止微塵(PARTICLE) 。

8.保溫材質:硅酸鋁。

9.特質復合式SUS304#不銹鋼電熱產生器。

保護裝置:超溫保護器,無熔絲開關。

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